欣俊哲微电子请求曝光补偿办法相关专利进步曝光精度

  

欣俊哲微电子请求曝光补偿办法相关专利进步曝光精度

  金融界2025年7月28日音讯,国家知识产权局信息数据显现,杭州欣俊哲微电子有限公司请求一项名为“曝光补偿办法、设备、存储介质、电子设备及曝光机”的专利,公开号CN120370637A,请求日期为2025年06月。

  专利摘要显现,本请求供给一种曝光补偿办法、设备、存储介质、电子设备及曝光机,触及光刻设备范畴。电子设备获取榜首导轨的形状曲线;依据承载渠道在形状曲线上的移动方位、榜首导轨与第二导轨之间的笔直度,得到光刻图画的位姿补偿量,并用于调整光刻图画的位姿,以使光刻图画与方针方针对齐。如此,可以有显着效果地补偿因榜首导轨形状误差所导致的横向偏移以及榜首导轨与第二导轨笔直度所导致的视点偏移,然后保证了即便曝光机存在误差的情况下,光刻图画仍可以与被曝光的方针方针对齐,进步了曝光精度。

  天眼查资料显现,杭州欣俊哲微电子有限公司,成立于2024年,坐落杭州市,是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本1805万人民币。经过天眼查大数据分析,杭州欣俊哲微电子有限公司共对外出资了1家企业,参加招投标项目1次,产业线条。

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