2023年年末，曝光机大厂ASML开端向英特尔交货其首个高数值孔径High-NA极紫外线 (EUV) 曝光机。上周末，英特尔也发布了一段网络视频，介绍东西于俄勒冈州希尔斯伯勒 (Hillsboro) 邻近芯片厂装置情况。英特尔规划，设备首要研讨和开发用。
ASML Twinscan EXE:5000 High-NA EUV曝光机体积很巨大，运送共需求250个栈板，总重量约33万磅。波音747货机将设备从荷兰运至俄勒冈州波特兰，然后一辆货车担任要害零件。
设备已入机结束，但需250名ASML和英特尔工程师约六个月彻底装置。即便ASML Twinscan EXE:5000 High-NA EUV彻底拼装，ASML和英特尔工程师仍需校准机器，需耗时长周乃至数月。
ASML High-NA EUV曝光机以8纳米分辨率图形化，增强规范孔径EUV曝光功能，单次曝光分辨率仅限13纳米，使晶体管尺度小约1.7倍，晶体管密度添加近三倍。8纳米要害尺度对3纳米以下制程至关重要，半导体界期望2025-2026年完结这方针。
ASML之前说新High-NA EUV曝光机价格是规范EUV曝光机两倍以上，约3.8亿美元（3.5亿欧元），最终价格取决于实践装备。英特尔首席执行官Pat Gelsinger表明机器本钱为4亿美元左右。
规范孔径EUV体系价格约1.83亿美元（1.7亿欧元），特定类型和装备价格也有不同。英特尔是第一家购买High-NA EUV曝光机的厂商，但ASML泄漏英特尔、三星、SK海力士和台积电等都有下订High-NA EUV曝光机，很快会成干流设备。
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